ポジ型フォトレジスト組成物

Positive photoresist composition

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a positive photoresist composition, in which the line edge roughness is improved and generation of development defects is decreased in the manufacture of a semiconductor device. SOLUTION: The positive photoresist composition contains a resin, which contains a specified repeating structural unit and which increases dissolution rate with an alkali developer liquid due to the effect of an acid, and contains a compound which produces acid by irradiation of active rays or radiation.
(57)【要約】 【課題】半導体デバイスの製造において、ラインエッジ ラフネスが改善され、現像欠陥の発生が軽減されたポジ 型フォトレジスト組成物を提供すること。 【解決手段】特定の繰り返し構造単位を含有し、酸の作 用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹 脂、及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する 化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジス ト組成物。

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